شرکت مهندسی نانو آداک

طراحی و ساخت، تأمین مواد و تجهیزات

طراحی و ساخت، تأمین مواد و تجهیزات

به وب سایت شرکت مهندسی نانو آداک خوش آمدید
شرکت مهندسی نانو آداک

آدرس :
دفتر فروش: تهران، بلوار کشاورز، نیش خ 16 آذر، مجتمع فناوری الزهرا، واحد 312
تلفن تماس : 02188962035
(شنبه تا چهارشنبه، ساعات 9 الی 17:30)
تلفکس: 02186052907
موبایل : 09360980330
سامانه ی پیام کوتاه : 02188962035
Email : Nanoadaktrading@gmail.com
اینستاگرام : nanoadak@

crisp

۹ مطلب با کلمه‌ی کلیدی «نانو آداک فناور» ثبت شده است


این سامانه مجموعه ای  از یک پمپ توربو مولکولی، پمپ مکانیکی روتاری دومرحله ای روغنی، اتصالات، ولو، منبع تغذیه و سیستم کنترل می باشد.
پمپ ها ساخت کمپانی معظم KYKY  میباشند.
ویژگی ها :
نصب و کاربری آسان، عملکرد قابل اعتماد که میتواند بطور گسترده برای آنالیزهای سطحی، فناوری شتاب دهنده ها، تجهیزات نیمه رسانا، فناوری پلاسما و ساخت سیستمهای خلأ استفاده شود.

مشخصات فنی​

110

Model no.

DN100CF

DN100KF

Inlet flange

>110

Pump speed l/s (in air)

>108

5×102

Compression ratio     N2

                                H2

6×10-7

6×10-6

Limited vacuum (Pa)

KF25

Outlet flange

220±20/50

Input voltage frequency (V/Hz)

0~40

Environment temperature ( ̊C )

RVP-4

Backing pump model

<3

Start time (min)

42,300

Rotating speed (rpm)

Water cooling or forced air cooling

Cooling type

65kg

Weight

500(L)×510(W)×685(H) mm

Dimension

    

DC Magnetron Sputtering

در این روش، با ایجاد یک میدان الکتریکی قوی، توسط اختلاف پتانسیلی حدود 1500 ولت به  2 صفحه خازنی، وقتی که اتمهای گاز در این میدان قرار می گیرند، با الکترونهای موجود در محیط که تحت تاثیر میدان شتاب گرفته ­اند، برخورد می­کنند و اتمها­ی گاز، به صورت یون (الکترون کنده شده) در محیط تبدیل می شوند یونهای مثبت در میدان، به سمت کاتد شتاب می گیرند و مانند گلوله­ ها به سطح هدف برخورد می­کنند، که در اثر این برخورد، اتمهای هدف اسپاتر می شوند  و در فضای خلاء پخش می شوند. لازم است تا هدف همواره خنک شود چرا که در غیر این صورت آنقدر دما بالا می رود که ممکن است، هدف ذوب شود.

در عمل می­ بینیم که در محیط فرایند(فاصله  target و substrate)، پلاسما(نور بنفش رنگ) تشکیل می شود، که علت آن ترکیب مجدد یونهای گاز با الکترونها و آزاد شدن انرژی به صورت نور در محیط می باشد که به آن پلاسما می گوییم. وقتی که سطح substrate  در معرض اتم ها قرار می گیرد یک لایه نازک- به میزان اسپاترینگ هدف- روی آن می نشیند. در طی فرایند ضخامت لایه همواره توسط سنسور ضخامت اندازه گیری می شود و با یک واسط روی مانیتور قابل مشاهده می باشد. sputtering در شرایط تعادلی خاصی از فشار گاز(فشار کاری)، توان و دما  انجام می گیرد. این روش به diode sputtering نیز معروف است. 

نرخ لایه نشانی برای ما اهمیت دارد که به عواملی ذیل بستگی دارد :

  •      میزان فشار گاز(فشار کاری)
  •      ولتاژ و توان اعمالی  (منبع انرژی)
  •      نوع اتمهای گازی که در اسپاترینگ دخیل است.      
  •      به نوع  target ای که اسپاتر می شود.

RF Magnetron Sputtering 

در این روش برای ایجاد میدان از فرکانس رادیویی (radio frequency) استفاده می شود که تحت این میدان الکترونها شتاب می گیرند و در اثر برخورد به اتمهای گاز، الکترون جدا می کنند  و اتمهای گاز به یون تبدیل می شود. مانند قبل در اثر ترکیب مجدد الکترون­ها و یونها با همدیگر انرژی به صورت نور آزاد می شود. اما چرا RF؟ چون از این روش بخصوص می توان برای sputtering  مواد عایق استفاده نمود. گفته می شود که اگر بخواهیم که یک ماده عایق را  به روش DC اسپاتر کنیم لازم است تا 1012 ولت به آن اعمال کنیم. فشار گاز در این روش در حدود 1-15 mtorr می باشد.

Thermal Evaporation 

یکی از ساده ترین روشها در لایه نشانی می باشد که دارای کاربردهای گسترده آزمایشگاهی و صنعتی می­ باشد. در این روش با تبخیر ماده پوشش دهنده توسط یک المنت حرارتی و نشستن و سرد شدن پوشش، یک لایه روی قطعه کار تشکیل می شود.


Technical Specification :

 3station working in one chamber

  • DC sputtering(1500 v)
  • RF sputtering(13.56 MHz ,300-600W)
  • Thermal Evaporation(300 A) 

Vacuum chamber

Vol : 50 L

view port 

( gas inlet (with switch valve and needle valve

Chamber mechanisms

 sputtering sources

Target shutter

Pressure system

Turbo pump

Rotary backing pump

Needle valves

Pirani guage /Pening guage

Gate valve

Control system

Heater/Water cooling system

Timer / Tempreture sensor

Thickness monitor

Control panel

 

     سفارش با ارسال ایمیل به nanoadaktrading@gmail.com یا صفحه تماس با ما


انواع تارگت های آلیاژی اسپاترینگ شامل موارد ذیل می باشند(تحت نام عنصر اصلی) : 

تارگت های آلیاژ آهن، تارگت های آلیاژ مس، تارگت های آلیاژ کبالت، تارگت های آلیاژ نیکل، تارگت های آلیاژ تیتانیوم، تارگت های آلیاژ زیرکونیوم، تارگت های آلیاژ تنگستن، تارگت های آلیاژ روی، تارگت های آلیاژ نقره و ...

اشکال هندسی مختلف تارگت ها در انواع ذیل می باشد :

  • دیسک، ویفر و پلیت (Dia<650mm, Thickness >1mm)
  • مستطیل، برش مستطیلی (Length <1500mm, Width<300mm, Thickness>1mm)
  • تیوب (Outer Dia < 300mm, Thickness >2mm)

Category Ingredient Purity Standard  

Aluminium-

base Alloy

Al-Mg 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Al-Si 4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Al-Si-Mg 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Al-Si-Cu 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Zn-Al 4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Cobalt-base Alloy
Co-Cr 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Co-Fe 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Co-Ni 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Co-Ni-Cr 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Copper- base Alloy
Cu-Ga 3N5 Spindle,Granule,Sputtering Target  
Cu-In 3N5 Spindle,Granule,Sputtering Target  
Cu-In-Ga 3N5 Spindle,Granule,Sputtering Target  
Cu-In-Ga-Se 3N5 Spindle,Granule,Sputtering Target  
Cu-In-Se 3N5 Spindle,Granule,Sputtering Target  
Cu-Se 3N5 Spindle,Granule,Sputtering Target  
Nickel- base Alloy
Ni-Cr 3N5 Spindle,Granule,Sputtering Target  
Ni-Co 4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Ni-Cu 4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Ni-Cr-Al 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Ni-Cr-Al-Si 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Ni-Cr-Si 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Ni-Fe 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Ni-V 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Titanium- base Alloy  Ti-Al 4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Ti-Cr 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Ti-Si 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Ti-Zr 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
W-Ti 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Others Cr-Si 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Cr-V 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Fe-Mn 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Fe-Co-B 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
In-Sn 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  
Zr-Fe 3N,4N Spindle,Granule,Sputtering Target  

در حال حاضر شرکت نانو آداک فناور امکان تأمین انواع بوته ها (Crucible)، قایقک (Boat)، وایرها و فیلامان های مخصوص تبخیر فلزات لایه نشانی از جنس های تنگستن و مولیبدن را دارا می باشد، بدین منظور و جهت آگاهی از قیمت ها و زمان تحویل اقلام ذکر شده، از طریق صفحه ی تماس با ما و یا ایمیل به nanoadaktrading@gmail.com نیاز خود را مطرح نموده تا در اسرع وقت اطلاعات موردنیاز جهت تکمیل فرایند خرید توسط کارشناسان این شرکت در اختیار شما قرار گیرد. ضمنا درج اطلاعات تماس در ایمیل یا درخواست خرید، الزامی می باشد.

"لطفا در صورتی که قصد خرید قطعی دارید اقدام به درخواست و استعلام قیمت نمایید"

   

  



    

    nanoadaktrading@gmail.com   

سازنده : کمپانی SJIA  چین

این کمپانی با احراز استانداردهای لازم از جمله CE برای محصولات خود، نام خود را در بین سازندگان تجهیزات آزمایشگاهی دمای پایین مطرح نموده است و محصولات خود را به سرتاسر دنیا صادر می نماید.

فریز درایرهای ساخت این کمپانی در قلب خود از کمپرسورهای ساخت کمپانی شناخته شده ی  Danfoss بهره برده و از این حیث دارای عملکرد مناسبی می باشد و قابلیت دستیابی به دماهای 50- و 80- درجه سانتیگراد را دارا می باشد، استفاده از میکروپرسسور در سیستم کنترلی دستگاه ها و بهره گیری از ال سی دی تاچ جهت کنترل پروسه و اپراتوری دستگاه نیز از دیگر مشخصه های بارز فریزدرایرهای ساخت این کمپانی معتبر می باشد.


turbomolecular pumps


 

   nanoadaktrading@gmail.com  

سازنده : کمپانی KYKY  چین

کمپانی KYKY با بیش از 48 سال تجربه در طراحی و ساخت پمپ های خلأ خیلی بالا از نوع توربومولکولار، یکی از بزرگترین و معتبرترین کمپانی های سازنده ی این نوع پمپ ها در دنیا می باشد.

محصولات این کمپانی دارای دو ویژگی مهم می باشند :

1- کیفیت بسیار بالای ساخت با احراز تمامی استانداردهای لازم

2- قیمت بسیار مناسب و مقرون به صرفه نسبت به سایر رقبا

پمپ های توربومولکولار ساخت این کمپانی در 8 مدل مختلف طراحی و به بازار عرضه شده اند. مشخصات فنی این پمپ ها در جدول زیر آمده است.

TECH SPECIFICATION

خط تولید پمپ های توربو در کمپانی KYKY 

KYKY


    

پمپ خلأ بالا از نوع روتاری روغنی (فشار نهایی 4-^10 میلی بار)

برای مشاهده جزئیات کلیک کنید


  

پمپ خلأ خیلی بالا از نوع توربومولکولار (فشار نهایی 8-^10و 10-^10 میلی بار)

برای مشاهده جزئیات کلیک کنید



منابع مگنترون کندوپاش، شامل کاتد و شیلد فضایی بوده و برای لایه نشانی با روش اسپاترینگ DC و RF  طراحی می شوند. دیگر مشخصات این منابع عبارتست از:

  • خوردگی بالای تارگت
  • نرخ بالای لایه نشانی 
  • نصب آسان روی سوراخ با ابعاد استاندارد
  • قابلیت خنک شدن تارگت با آب
  • در اندازه های تارگت 2 ، 3 و 4 اینچی ( در صورت سفارش طراحی خاص برای تارگت های بزرگتر)
  • دارای اتصالات آسان آب و ورودی تغذیه برق

در صورت نیاز به منابع لایه نشانی ساخت کمپانی های معتبر خارجی، می توانید جزئیات نیاز خود را با ما در میان بگذارید.

  سفارش از طریق ارسال ایمیل به nanoadaktrading@gmail.com یا صفحه تماس با ما


"لطفا در صورتی که قصد خرید قطعی دارید اقدام به درخواست و استعلام قیمت نمایید"

.
امروزه گیج های فشار در رنج های اندازه گیری مختلف و تنوع روشهای اندازه گیری، طراحی و ساخته می شوند. عموما گیج های مورد استفاده در صنعت خلأ از نوع پیرانی، پنینگ، خازنی، ترکیبی و ... می باشند که برحسب نیاز مصرف کننده قابل تأمین از کمپانیهای معتبر داخلی و خارجی همچون Adixen ،INFICON ،MKS ،Edward و ... می باشند. در همین راستا شرکت نانو آداک فناور باتوجه به تجربه ی بالا و تعاملات مناسبی که با این کمپانیها دارد، آمادگی تامین نیازهای بخشهای تحقیقاتی، تولیدی، آزمایشگاهی و ...  را دارا می باشد.
** ضمنا خدمات تست و کالیبراسیون انواع گیج ها و نمایشگرهای خلأ منطبق با استانداردهای بین المللی در این شرکت انجام میگیرد.
.
.
.
.
    
.